- +1
关键突破!中国电科48所8英寸碳化硅外延设备再升级
2024-09-05 20:46
来源:澎湃新闻·澎湃号·政务
字号
▲ 点击蓝字“中国电科”,关注CETC品牌微刊
近日,中国电科48所自主研发的8英寸碳化硅外延设备关键技术再获突破。
碳化硅外延炉是第三代半导体碳化硅器件制造的核心装备之一。此次“全新升级”的8英寸碳化硅外延设备,具备更快、更好、更稳定的特点,通过改进激光视觉定位、晶圆自纠偏等技术,设备自动化性能更加成熟,提升产品生产效率。设备还成功引入新的掺杂技术,进一步提升产品良率,持续降低生产成本。
未来,48所将持续加强关键核心技术攻关,聚焦产业链重点环节补链固链强链,推动形成产学研紧密合作、上下游链条打通的协同创新局面,为我国第三代半导体产业高水平科技自立自强贡献“装备力量”。
通讯员/龚睿 校对/谢雅巍
在这里·悦读中国电科
原标题:《关键突破!中国电科48所8英寸碳化硅外延设备再升级》
特别声明
本文为澎湃号作者或机构在澎湃新闻上传并发布,仅代表该作者或机构观点,不代表澎湃新闻的观点或立场,澎湃新闻仅提供信息发布平台。申请澎湃号请用电脑访问http://renzheng.thepaper.cn。
+1
收藏
我要举报
澎湃矩阵
新闻报料
- 报料热线: 021-962866
- 报料邮箱: news@thepaper.cn
互联网新闻信息服务许可证:31120170006
增值电信业务经营许可证:沪B2-2017116
© 2014-2024 上海东方报业有限公司
反馈